技術交流

低溫空氣分離製程(Cryogenic Air Separation Process)是普遍用來生產大量高純度工業氣體的技術，氣體生產廠用此製程將空氣在極低溫之狀態下，採用高壓與低壓蒸餾管進行分餾，從空氣中分離出O2、N2與其他種類的氣體。在不同的生產過程階段中，為求對製程安全、製程控制與製程品管工作達到理想的標準， 需要在製程不同設備與位置以氣體分析儀來進行即時連續監測。

工業氣體分析監測設備巨擘Servomex，對氣體空氣分離製程之氣體監測需求，擁有業界最尖端的氣體分析產品與無可比擬的經驗。可針對以上的需求提供用戶最成熟可靠的氣體分析儀及整體解決方案。以下依製程各種不同的監測需求介紹適用的產品機型。

製程安全監測應用 :
1. 微量CO2監測 : 由於過高濃度的CO2會在冷箱中凍結，產生堵塞管路造成壓力過高爆炸的危險。可採用SERVOPRO MultiExact或4100 GFX量測導入冷箱之壓縮空氣中的CO2濃度(0~10ppm)，以監測scrubber的效率。

2. 微量HC (碳氫化合物)監測 : 採用FID火焰離子法之SERVOPRO FID來量測原料空氣中之HC濃度 (0~10或0~100ppm)，以監測scrubber的效率。而且因為LP Column中O2裡的HC濃度高於300ppm時可能會導致爆炸危險，故須量測其HC濃度(0~500ppm)，確保設備運轉之安全性。

3. 微量N2O監測 : 採用SERVOPRO MultiExact或4100 GFX 來量測冷凝器中液態O2裡的N2O濃度 (0~20ppm)，以避免N2O在熱交換器中生成，並污染了液態O2成品。

製程控製監測應用 :
1. %O2監測 : 量測再生純化與內部冷凍中N2裡的O2濃度(0~21%)，可採用MultiExact或4100 Paramagnetic來量測粗Ar供應管路中O2濃度(0~100% , 20~100%)，以及確認HP Column中液態O2的純度 (98~100%)。

2. 微量O2監測 : 採用SERVOPRO MultiExact或4100 Zirconia量測來自Ar純化器所輸出之Ar中的O2濃度 (0~10ppm)，以確認Ar的純度。

3. 微量N2監測 : 採用SERVOPRO Plasma量測來自Ar純化器輸出之Ar中的N2 濃度 (0~10ppm)，以及採用SERVOPRO Chroma GC量測粗O2或粗Ar中的N2濃度 (0~2000ppm) ，以增進Ar的回收量。

4. % Ar監測 : 採用Thermal Conductivity Detector (TCD, 熱傳導感測器)之K1550來監測供應粗氬塔冷凝器之LP O2 Column中O2裡的Ar (0~30%)。

製程品管監測應用 :
1. %O2監測 : 採用MultiExact或4100 Paramagnetic來量測管路中的液態O2 (99~100%) 與氣態O2濃度(98~100%)，以確認產品的純度。

2. 微量O2監測 : 採用SERVOPRO MultiExact或4100 Zirconia量測N2成品中的O2、液態Ar成品中的O2，與輸出至儲槽之液態Ar成品中的O2濃度(0~10ppm)。

3. 微量N2監測 : 採用SERVOPRO Plasma量測Ar成品中的N2濃度 (0~10ppm)。

4. 純氣體中之微量不純物監測 : 採用SERVOPRO GC來量測N2、O2與Ar成品中之O2、H2、N2、CO2、CO、CH4與NMHC之濃度。

5. % Ar監測 : 採用Thermal Conductivity Detector (TCD, 熱傳導感測器)之K1550來監測Ar純度 (90~100%)。