112年5月4日 環保署公告修正 [半導體製造業空氣污染管制及排放標準]
環保署為強化空氣污染防制管理，修正 [半導體製造業空氣污染管制及排放標準]。並放寬全廠總排放量管制方式改以個別排放管道濃度規範。使不因大廠排放量太嚴而小廠太寬鬆之爭議。並為促進新建廠房或新設製程應選擇污染排放量較低或空污防制效能較佳的設備，分別訂定既存及新設製程排放標準。
本次修正重點:
第四條
半導體製造業產生之空氣污染物應經密閉集氣系統收集，並應符合
規定後始得排放:
既存製程 :
排放削減率應達九十%或排放濃度十四ppm以下(以甲烷為計算基準)。
新設製程:
排放削減率應達九十五%或排放濃度十ppm以下(以甲烷為計算基準)。
第五條
...收集之廢氣於污染防制設備之廢氣導入處或排放管道排放口應設置流量計及濃度監測器，其設置規定如下：
一、適用本標準之半導體製造業均應設置流量計。
二、揮發性有機物原（物）料年用量大於二十五噸或工廠總排放量大於每小時零點六公斤者。
屬既存製程其揮發性有機物排放大於十四ppm，
或屬新設製程其揮發性有機物排放大於十ppm之排放管道，應設置揮發性有機物濃度監測器證明符合本標準排放削減率。既存製程與新設製程合併設置排放管道者，以新設製程之設置規定認定之。
三、流量計及濃度監測器之有效每季監測率應大於八十％，每年至少以標準檢測方法比測一次，比測時間每次至少二小時，所設置之流量計及 濃度監測器所得之結果應以上次比測結果修正之。
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