在準分子雷射氣體中分析F2 CL2 鹵素氣體
半導體特氣的應用例:
連續分析: F2 (fluorine), Cl2 (chlorine)
使用儀器: OMA-300 Process Analyzer ,UV-Vis 光譜儀-
被測氣體: 準分子雷射氣體, (Excimer laser gas mixtures)
典型量測範圍: 0-1%
從蝕刻微晶片電路到電晶體層帶,到矯正人類眼角膜,準分子鐳射光有許多工業用途。準分子鐳射氣體通常由:鹵素氣體、稀有惰性氣體和緩衝氣體的混合組合。這些氣體比例上通常: 2-9% 隋性氣體、0.2% 鹵素氣體、和 90-98% 平衡氣體(氦氣或氖氣)組成。當這些特定混合氣體的在適當的電位激發和不同壓力下,會發出不同波長的深紫外線(DUV)光。
例如,特用氣體公司將有XeF或KrCl 混合氣體,出售給操作準分子鐳射器的半導體製造工廠公司。在生產過程中,必須密切監測氣瓶內氣體的品質。鹵素氣體需要分析量化。
OMA-300 UV-VIs光譜分析儀可連續分析F2和Cl2氣體濃度,反應時間約每 5 秒提供一次新的測量。反應時間對於生產雷射氣體品質的突然變化至關重要。
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